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Thin Film Materials: Stress, Defect Formation and Surface Evolution [Anglais] [Broché]

L. B. Freund , S. Suresh
4.0 étoiles sur 5  Voir tous les commentaires (1 commentaire client)
Prix : EUR 49,46 LIVRAISON GRATUITE En savoir plus.
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Description de l'ouvrage

11 décembre 2008
Thin film mechanical behavior and stress presents a technological challenge for materials scientists, physicists and engineers. This book provides a comprehensive coverage of the major issues and topics dealing with stress, defect formation, surface evolution and allied effects in thin film materials. Physical phenomena are examined from the continuum down to the sub-microscopic length scales, with the connections between the structure of the material and its behavior described. Theoretical concepts are underpinned by discussions on experimental methodology and observations. Fundamental scientific concepts are embedded through sample calculations, a broad range of case studies with practical applications, thorough referencing, and end of chapter problems. With solutions to problems available on-line, this book will be essential for graduate courses on thin films and the classic reference for researchers in the field.

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Descriptions du produit

Revue de presse

'The book is a landmark in a rich subject which has seen many developments over the past decade. In addition to being beautifully written, the book contains many illustrations, micrographs, and problems for students. The book will serve as a graduate text, as well as a comprehensive monograph everyone working in the field will want to own.' Professor John W. Hutchinson, Harvard University

'Freund and Suresh have written a masterpiece on thin film materials that will become a classic reference for this newly developed field. Their book provides an organized and beautifully written exposition of the subject of thin film mechanical behavior. For the first time there is a single starting point for the field. The book brings together materials and mechanics aspects of thin films effortlessly, reflecting the authors' expertise in joining these fields of science and engineering.' Professor William D. Nix, Stanford University

'I would heartily recommend this book as an essential read for anyone working in any area of thin film deposition.' Materials World

'Thin Film Materials will prove a valuable resource. It contains a wealth of useful references and good indexes. It is richly illustrated, and there are good exercises after each chapter. For a graduate course in the field, it will be hard to beat. And if the authors are right, there will be a growing demand for such courses.' Times Higher Education Supplement

Biographie de l'auteur

L. Ben Freund is the Henry Ledyard Goddard University Professor in the Division of Engineering at Brown University.

Subra Suresh is the Ford Professor of Engineering and Head of the Department of Materials Science and Engineering, and Professor of Mechanical Engineering at Massachusetts Institute of Technology.

Détails sur le produit

  • Broché: 770 pages
  • Editeur : Cambridge University Press; Édition : 1 (11 décembre 2008)
  • Langue : Anglais
  • ISBN-10: 0521529778
  • ISBN-13: 978-0521529778
  • Dimensions du produit: 24,4 x 17 x 4,3 cm
  • Moyenne des commentaires client : 4.0 étoiles sur 5  Voir tous les commentaires (1 commentaire client)
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Format:Broché|Achat authentifié par Amazon
Ce livre est une référence pour qui s'intéresse à la tenue mécanique des couches minces. Très bien écrit, très clair, complet et approfondi. Je le conseille vivement. Cette edition broché est peut être un peu "cheap" pour un ouvrage plutôt destiné à être consulté plein de fois plutôt que destiné à une seul lecture comme un roman.
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Commentaires client les plus utiles sur (beta) 4.7 étoiles sur 5  3 commentaires
8 internautes sur 9 ont trouvé ce commentaire utile 
5.0 étoiles sur 5 highly recommend it 23 décembre 2005
Par N. Singh - Publié sur
Okay we followed this book for our lecture in thin films given by the first author of the book LB Freund, one of the best instructors i ever had. i will try not to be biased by his teaching skills while writing this review. i would say that its a must reference who are working in thin film area be it experimental or modeling. but i believe that you need to have a sound background atleast in continuum mechanics and elasticity to fully follow the mechanics (of deformation) part of the thin film on your own. the best thing i liked about this book is its methodical structure for e.g. deriving the basic Stoney's relation by minimizing the energy, then talk about its assumption in detail and then removing those assumptions one by one to make the relation more realistic (and offcourse more complicated). there are other things like material properties of common thin film materials used in microelectronics, topics on surface morphology etc. his writing style is very clear... again not for someone who doesnt have necessary background.
5 internautes sur 5 ont trouvé ce commentaire utile 
4.0 étoiles sur 5 A good book indeed; highly recommend it. 20 mars 2007
Par Entropy4Life - Publié sur
I like this book for it is a rather comprehensive treatment of the subject, and is written in a clear prose. However, one should realize that the focus is solely on the mechanical behavior of thin films, which could be attributed to the authors background and research interests.

Virtually, all properties of thin films (electronic, magnetic, optical, ferroelecrtic, multiferroic etc.) are affected if not chiefly governed by the elastic coupling of "order" parameters with strains and such, especially at nanoscopic length scales. This book is primarily devoted to mechanical behavior of thin films in an isolated fashion. For instance, misfit dislocation and critical thickness phenomena in thin films is treated with linear elasticity models, so much so that it is of limited use in thin films of multifunctional materials (ferromagnetics, ferroelectics, ferroelastics, multiferroics etc). However, the book by Freund and Suresh is an excellent introductory text from a mechanical behavior perspective. It develops all core concepts efficiently and thoroughly. And as such, it is of fundamental importance. I highly recommend it.

1 internautes sur 9 ont trouvé ce commentaire utile 
5.0 étoiles sur 5 Excelente referencia..... 10 mai 2005
Par Joaquín Aarón - Publié sur
Format:Relié|Achat authentifié par Amazon
Un tema que me ha procupado mucho durante el desarrollo de mi trabajo de tesis con recubrimientos es los esfuersos residuales que se generan durante el proceso de sintesis.... definitivamente este libro ha despejado mis dudas sobre el tema y ha sido una excelente referencia para mi trabajo....
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