Neuf :
153,33 €
Tous les prix incluent la TVA.
Retours GRATUITS
Retournez cet article gratuitement
  • Les retours gratuits sont disponibles pour l'adresse d'expédition que vous avez choisie. Vous pouvez retourner l'article pour n'importe quelle raison dans son état neuf et inutilisé, sans frais de retour.
  • En savoir plus sur les retours gratuits.
Livraison à 0,01 € mercredi 22 novembre. Détails
Ou livraison accélérée samedi 18 novembre. Commandez dans les 23 h 17 min. Détails
En stock
153,33 € () Options sélectionnées incluses. Comprend le paiement mensuel initial et les options sélectionnées. Détails
Prix
Sous-total
153,33 €
Sous-total
Ventilation du paiement initial
Les frais d’expédition, la date de livraison et le total de la commande (taxes comprises) indiqués lors de la finalisation de la commande.
Autres vendeurs sur Amazon
Ajouté
153,00 €
+ 0,01 € Livraison
Vendu par : livres PBS
Vendu par : livres PBS
(75019 évaluations)
90 % positif(s) au cours des 12 derniers mois
Habituellement expédié sous 3 à 4 jours
Frais d'expédition et Politique de retours
Image du logo de l'application Kindle

Téléchargez l'application Kindle gratuite et commencez à lire des livres Kindle instantanément sur votre smartphone, tablette ou ordinateur - aucun appareil Kindle n'est requis.

Lisez instantanément sur votre navigateur avec Kindle pour le Web.

Utilisation de l'appareil photo de votre téléphone portable - scannez le code ci-dessous et téléchargez l'application Kindle.

Code QR pour télécharger l'application Kindle

Suivre l'auteur

Une erreur est survenue. Veuillez renouveler votre requête plus tard.

Fundamentals of Electrochemical Deposition, 2nd Edition Relié – 21 juillet 2006

4,5 4,5 sur 5 étoiles 5 évaluations

Prix Amazon
Neuf à partir de Occasion à partir de
Relié, 21 juillet 2006
153,33 €
120,40 €
{"desktop_buybox_group_1":[{"displayPrice":"153,33 €","priceAmount":153.33,"currencySymbol":"€","integerValue":"153","decimalSeparator":",","fractionalValue":"33","symbolPosition":"right","hasSpace":true,"showFractionalPartIfEmpty":true,"offerListingId":"40W1St%2F83Veuo6hnOrbuzq1gecpjZJF3bQg%2FMewdzbgFvF2UA8hVCtylh23ueUwaJutlmE%2FIvpElNTvGvBt8z%2B%2F%2Bw1QFxN2TcbzimSqW2pVgdAt9x1c0ZS%2B4JVP6sL1k","locale":"fr-FR","buyingOptionType":"NEW","aapiBuyingOptionIndex":0}]}

Options d'achat et paniers Plus

Description du produit

Revue de presse

" an excellent book for explaining electrochemical deposition to students, practicing engineers, or scientists " ( Journal of Metals Online, July 25, 2007)

" a great book for anyone who wants to learn about the fundamentals of electrochemical deposition." (IEEE Electrical Insulation Magazine, July/August 2007)

"The book is a definitive treatment of the subject by two experts in the field " (CHOICE, February 2007)



"The book is a definitive treatment of the subject by two experts in the field " (
CHOICE, February 2007)

Quatrième de couverture

Excellent teaching and resource material . . . it is concise, coherently structured, and easy to read . . . highly recommended for students, engineers, and researchers in all related fields."
Corrosion on the First Edition of Fundamentals of Electrochemical Deposition

From computer hardware to automobiles, medical diagnostics to aerospace, electrochemical deposition plays a crucial role in an array of key industries. Fundamentals of Electrochemical Deposition, Second Edition is a comprehensive introduction to one of today′s most exciting and rapidly evolving fields of practical knowledge.

The most authoritative introduction to the field so far, the book presents detailed coverage of the full range of electrochemical deposition processes and technologies, including:

  • Metal–solution interphase
  • Charge transfer across an interphase
  • Formation of an equilibrium electrode potential
  • Nucleation and growth of thin films
  • Kinetics and mechanisms of electrodeposition
  • Electroless deposition
  • In situ characterization of deposition processes
  • Structure and properties of deposits
  • Multilayered and composite thin films
  • Interdiffusion in thin film
  • Applications in the semiconductor industry and the field of medicine

This new edition updates the prior edition to address the new developments in the science and its applications, with new chapters on innovative applications of electrochemical deposition in semiconductor technology, magnetism and microelectronics, and medical instrumentation. Added coverage includes such topics as binding energy, nanoclusters, atomic force, and scanning tunneling microscopy.Example problems at the end of chapters and other features clarify and improve understanding of the material.

Written by an author team with extensive experience in both industry and academe, this reference and text provides a well–rounded introduction to the field for students, as well as a means for professional chemists, engineers, and technicians to expand and sharpen their skills in using the technology.

Détails sur le produit

  • Éditeur ‏ : ‎ Wiley-Interscience; 2nd Edition (21 juillet 2006)
  • Langue ‏ : ‎ Anglais
  • Relié ‏ : ‎ 386 pages
  • ISBN-10 ‏ : ‎ 0471712213
  • ISBN-13 ‏ : ‎ 978-0471712213
  • Poids de l'article ‏ : ‎ 656 g
  • Dimensions ‏ : ‎ 15.6 x 2.69 x 23.39 cm
  • Commentaires client :
    4,5 4,5 sur 5 étoiles 5 évaluations

À propos de l'auteur

Suivez les auteurs pour obtenir de nouvelles mises à jour et des recommandations améliorées.
Brief content visible, double tap to read full content.
Full content visible, double tap to read brief content.

Découvrir d'autres livres de l'auteur, voir des auteurs similaires, lire des blogs d'auteurs et plus encore

Commentaires client

4,5 étoiles sur 5
4,5 sur 5
5 évaluations globales

Meilleures évaluations de France

Il y a 0 commentaire et 0 évaluations venant de France

Meilleurs commentaires provenant d’autres pays

Traduire tous les commentaires en français
Seth K.
5,0 sur 5 étoiles Good book to have
Commenté aux États-Unis le 5 mars 2010